KRI 線性霍爾離子源 eH Linear
上海伯東代理美國原裝進口 KRI  線性離子源使用 eH 400 做為模組, 能應用于寬范圍的襯底, 離子源長度高達 1 米, 通過嚴格調整模組間的距離可以實現更佳的均勻性和離子流. 由于模組是平行放置, 大大簡化了氣體, 功率和電子三者的分布. KRI 線性離子源使用標準的端部霍爾模組并使設備的需求簡化, 一個低成本, 高電流和低能量的離子束可以很好的使用于 web 涂層, in-line 沉積和圓柱旋轉濺射系統.

霍爾離子源 eH 400 尺寸
尺寸: 直徑= 3.7“ 高= 3”
放電電壓 / 電流: 50-300eV / 5A
操作氣體: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有機前體

KRI 霍爾離子源 eH Linear 技術參數

型號	eHL400-2/ eHL400-3/ eHL400-4/ eHL400-5
供電	DC magnetic confinement
- 電壓	40-200V VDC
- 陽極結構	模塊化
電源控制	eHL-30010A
配置	-
- 陰極中和器	Filamentless
- 離子束發散角度	> 45° (hwhm)
- 陽極	標準或 Grooved
- 底座	移動或快接法蘭
- 高度	10 cm
寬度	10 cm
- 長度	~ 100cm
-工藝氣體	Ar, Xe, Kr, O2, N2, Others

 

Model	eHL 200-3	eHL 200-5
Height (nominal)	2.9” (7.4cm)	2.9” (7.4cm)
Width (nominal)	3.3” (8.4cm)	3.3” (8.4cm)
Length (nominal)	Determined by number of modules & application	Determined by number of modules & application
Cathode/Neutralizer	Yes	Yes
Anode module	Yes	Yes
Filamentless	Yes	Yes
Orientation	Vertical / Horizontal	Vertical / Horizontal
Process gases	Inert, reactive, & organic	Inert, reactive, & organic
Power controller	eH Plasma Power Pack	eH Plasma Power Pack

1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發生產考夫曼離子源, 霍爾離子源和射頻離子源. 美國考夫曼離子源歷經 40 年改良及發展已取得多項成果. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領域, 上海伯東是美國考夫曼離子源中國總代理.

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