Pfeiffer 氦質(zhì)譜檢漏儀脈沖激光沉積系統(tǒng) PLD 檢漏
脈沖激光沉積系統(tǒng) PLD
脈沖激光沉積系統(tǒng) Pulsed laser deposition 是制備高通量多晶薄膜, 外延薄膜和多層異質(zhì)結(jié)構(gòu)和超晶格結(jié)構(gòu)的物理氣相沉積設(shè)備, 通常需要保證本底真空度達到 10-8mbar, 同時高真空環(huán)境對系統(tǒng)配置的 RHEED 及溫控系統(tǒng)等關(guān)鍵設(shè)備的壽命也至關(guān)重要.

脈沖激光沉積系統(tǒng) PLD 需要檢漏原因
PLD 系統(tǒng)需要高真空環(huán)境, 腔室是否有泄露, 是否有內(nèi)部材料放氣等因素對實現(xiàn)高真空及超高真空很關(guān)鍵. 因此需要對整個系統(tǒng)進行泄漏檢測. 氦質(zhì)譜檢漏儀利用氦氣作為示蹤氣體可定位, 定量漏點. 因此廣泛應(yīng)用于 PLD 設(shè)備檢漏.

脈沖激光沉積系統(tǒng) PLD 檢漏客戶案例: 上海伯東某客戶 PLD 設(shè)備用來制備各種材料, 為了保證產(chǎn)品質(zhì)量, 采購氦質(zhì)譜檢漏儀 ASM 340 搭配使用.

生長多層膜（TiN/ALN）結(jié)構(gòu), 各層膜厚度可調(diào)	高通量制備具有不同材料成分的100種材料	PLD 制備的 Ag 的納米多孔材料

脈沖激光沉積系統(tǒng) PLD 檢漏方法
采用真空模式檢漏, 通過波紋管連接需要檢漏的腔體, 設(shè)定好需要的漏率值
在懷疑有漏的地方噴氦氣（一般需要檢漏的部位是焊縫或連接處）,如果有漏,檢漏儀會出現(xiàn)聲光報警同時在屏幕上顯示當(dāng)前漏率值.

上海伯東推薦 Pfeiffer 氦質(zhì)譜檢漏儀 ASM 340 三種類型可選

型號	ASM 340 WET	ASM 340 D	ASM 340 I
對氦氣的最小檢測漏率, 真空模式	5E-13 Pa m3/s	5E-13 Pa m3/s	5E-13 Pa m3/s
檢測模式	真空模式和吸槍模式	真空模式和吸槍模式	真空模式和吸槍模式
檢測氣體	4He, 3He, H2	4He, 3He, H2	4He, 3He, H2
對氦氣的抽氣速度 l/s	2.5	2.5	2.5
進氣口最大壓力 hPa	25	25	5
前級泵抽速 m3/h	油泵 15	隔膜泵 3.4	不含前級泵
重量 kg	56	45	32

結(jié)合了 Pfeiffer 與 Adixen 兩家檢漏儀的技術(shù)優(yōu)勢, 上海伯東德國 Pfeiffer 推出全系列新型號氦質(zhì)譜檢漏儀, 從便攜式檢漏儀到工作臺式檢漏儀滿足各種不同的應(yīng)用. 氦質(zhì)譜檢漏儀替代傳統(tǒng)泡沫檢漏和壓差檢漏, 利用氦氣作為示蹤氣體可準(zhǔn)確定位, 定量漏點. 氦質(zhì)譜檢漏儀滿足單機檢漏, 也可集成在檢漏系統(tǒng)或 PLC. 推薦氦質(zhì)譜檢漏儀應(yīng)用 >>

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