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Aston? 質譜儀通過數字分子分析推進半導體過程控制
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Aston? 質譜儀通過數字分子分析推進半導體過程控制

Aston? 質譜儀通過數字分子分析推進半導體過程控制

先進半導體應用的原位過程控制
上海伯東日本 Atonarp Aston™  Impact 和 Aston™ Plasma 是超緊湊型質譜儀, 適用于先進半導體工藝(如沉積和蝕刻)所需的定量氣體分析.

Aston?質譜分析
分子測量

快速,靈敏度達到十億分之一 檢測殘留氣體 / 冷凝物污染.

Aston?質譜分析
提高產量

提供化學特定的可操作見解, 盡可能地提高產量

Aston?質譜分析
提高安全性

監測爆炸性氣體. 檢查排放和減排效果.


Aston™ 質譜儀解決了關鍵的原位計量問題

• 提高吞吐量: 端點檢測而不是基于時間的流程
• 提高產量: 以十億分之一的靈敏度測量沉積和蝕刻工藝期間的工藝氣體 / 副產物

Aston™ 質譜儀先進工藝的優勢
ppb 級靈敏度的高速采樣
非常適合高縱橫比的 3D 結構
耐腐蝕性氣體
堅固緊湊
易于集成到工具平臺中
沉積應用中:  實時過程氣體監控,以驅動自動化工具調整以實現過程控制, 沉積步驟之間的終點檢測, 實現層的化學計量工程
蝕刻應用中: 以 ppb 為單位測量的工藝氣體和副產品, 啟用端點腔室清潔

Atonarp  Aston™ 技術參數

類型

Impact-300

Impact-300DP

Plasma-200

Plasma-200DP

Plasma-300

Plasma-300DP

型號

AST3007

AST3006

AST3005

AST3004

AST3003

AST3002

質量分離

四級桿

真空系統

分子泵

分子泵
隔膜泵

分子泵

分子泵
隔膜泵

分子泵

分子泵
隔膜泵

檢測器

FC /SEM

質量范圍

2-285

2-220

2-285

分辨率

0.8±0.2

檢測限

0.1 PPM

工作溫度

15-35“℃

功率

350 W

重量

15 kg

尺寸

299 x 218 x 331 LxWxH(mm)

400 x 240 x 325 LxWxH(mm)

 

Aston™ 質譜儀半導體制造應用

先進的工藝
原子層沉積 (ALD)
化學氣相沉積 (CVD)
原子層蝕刻 (ALE)

室管理
干凈的終點檢測
指紋識別和匹配
 

Sub-fab 安全性, 可持續性和節省優化
過程安全監控
干泵保護
減排管理

質譜分析儀

沉積
化學氣相沉積

TEOS

蝕刻
介電,導電,金屬
高縱橫比 <1% 開放區域檢測


EUV/光刻
SnH4 蝕刻
光掩模蝕刻

自主過程控制
模型驅動的實時過程監控


若您需要進一步的了解 Atonarp  Aston™ 在線質譜分析儀詳細信息或討論, 請參考以下聯絡方式:
上海伯東: 葉小姐                                   臺灣伯東: 王小姐
T: +86-21-5046-3511 ext 109              T: +886-3-567-9508 ext 161
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