Aston? 質譜儀通過數字分子分析推進半導體過程控制閱讀數: 3028

先進半導體應用的原位過程控制
上海伯東日本 Atonarp Aston™ Impact 和 Aston™ Plasma 是超緊湊型質譜儀, 適用于先進半導體工藝(如沉積和蝕刻)所需的定量氣體分析.
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Aston™ 質譜儀解決了關鍵的原位計量問題
• 提高吞吐量: 端點檢測而不是基于時間的流程
• 提高產量: 以十億分之一的靈敏度測量沉積和蝕刻工藝期間的工藝氣體 / 副產物
Aston™ 質譜儀先進工藝的優勢
ppb 級靈敏度的高速采樣
非常適合高縱橫比的 3D 結構
耐腐蝕性氣體
堅固緊湊
易于集成到工具平臺中
沉積應用中: 實時過程氣體監控,以驅動自動化工具調整以實現過程控制, 沉積步驟之間的終點檢測, 實現層的化學計量工程
蝕刻應用中: 以 ppb 為單位測量的工藝氣體和副產品, 啟用端點腔室清潔
Atonarp Aston™ 技術參數
類型 |
Impact-300 |
Impact-300DP |
Plasma-200 |
Plasma-200DP |
Plasma-300 |
Plasma-300DP |
型號 |
AST3007 |
AST3006 |
AST3005 |
AST3004 |
AST3003 |
AST3002 |
質量分離 |
四級桿 |
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真空系統 |
分子泵 |
分子泵 |
分子泵 |
分子泵 |
分子泵 |
分子泵 |
檢測器 |
FC /SEM |
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質量范圍 |
2-285 |
2-220 |
2-285 |
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分辨率 |
0.8±0.2 |
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檢測限 |
0.1 PPM |
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工作溫度 |
15-35“℃ |
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功率 |
350 W |
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重量 |
15 kg |
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尺寸 |
299 x 218 x 331 LxWxH(mm) |
400 x 240 x 325 LxWxH(mm) |
Aston™ 質譜儀半導體制造應用
先進的工藝 Sub-fab 安全性, 可持續性和節省優化 |
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沉積
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