KRi 離子源電源控制器 Power Supplies
上海伯東美國 KRi 提供的離子源模塊化電源控制器, 可以操作各種離子, 等離子體和電子源, 用于在等離子體處理中, 輸出穩定和可重復功率的動態負載. 可以在惡劣的環境中正常運轉, 易于系統集成.

離子源電源控制器由多個模組組成, 模組的特性取決于功率, 頻率, 電壓, 電流和控制方式, 大多數模組都滿足 CE 和 CoHS 標準.

連續性和穩定性: 能夠在緊急情況下比如載入高能量的等離子體, 短路, 電流過沖, 電壓過沖和功率過沖的情況, 實現保護功能. 確保在運行沉積和刻蝕工藝時進行不間斷的操作. 通過數顯的面板, 可以即時觀測和控制工藝參數和狀態資訊.

KRi 模塊化電源包括但不限于以下產品:
無柵網霍爾電源
DC 直流電源集成中和器
RFICP 射頻電源

電源控制器型號	對應 KRi 離子源型號
RF1520-220 1500V & 2.0 output	RFICP 220, RFICP 380
RF1510-220 1500V & 1.0A output	RFICP 140, RFICP 220
RF1510-206 1500V & 1.0A output	RFICP 100, RFICP 140
RF1510-206 1500V & 1.0A output	RFICP 100
RF1502-206 1500V & 0.2A output	RFICP 40
KSC1212 100V & 13A Output	KDC 75, KDC 100, KDC 160
KSC 1202 100V & 10A output	KDC 10, KDC 40

1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發生產考夫曼離子源, 霍爾離子源和射頻離子源. 美國考夫曼離子源歷經 40 年改良及發展已取得多項成果. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領域, 上海伯東是美國考夫曼離子源中國總代理.

若您需要進一步的了解 KRi 射頻離子源, 請參考以下聯絡方式
上海伯東: 葉小姐                                  臺灣伯東: 王小姐
T: +86-21-5046-3511 ext 107             T: +886-3-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490                          F: +886-3-567-0049
M: +86 1391-883-7267                       M: +886-939-653-958
上海伯東版權所有, 翻拷必究！