動態二次離子質譜儀 ADEPT-1010
上海伯東代理 ADEPT-1010 動態二次離子質譜儀專為淺層半導體注入和絕緣薄膜的自動分析而設計, 是大多數半導體開發和支持實驗室的常用工具. ADEPT-1010 動態二次離子質譜儀通過優化的二次離子收集光學系統和超高真空設計, 提供了薄膜結構檢測中的摻雜組分和常見雜質所需的靈敏度.

PHI 動態二次離子質譜儀 ADEPT-1010 特點
1. 高靈敏度二次離子檢測光學系統
2. 懸浮電位離子槍適于淺注入層分析
3. 對大氣污染物組分具有低檢出限
4. 絕緣體深度分析
5. 高精度自動樣品臺

動態二次離子質譜儀 ADEPT-1010 應用場景

ADEPT-1010 非常適合超淺離子注入樣品的深度剖析,  例如右圖顯示的是使用 500V O2離子束對 B元素注入進行深度剖析的結果
ADEPT-1010 的 UHV 設計對薄膜結構中的大氣污染物提供了低檢出限.
用戶可以使用 SIMetric™ 儀器軟件對測試方案進行快速編程, 實現無人值守的自動分析

上海伯東代理 ADEPT-1010 型四級桿動態 SIMS 采用獨特的二次離子提取系統, 該系統能夠提高二次離子傳輸性能.高的離子傳輸性能提高了深度分析的檢測限, 使得 ADEPT-1010 動態二次離子質譜儀能夠出色完成對離子注入結構的深度和劑量檢測任務. 這些離子注入過程中的關鍵參數測試的重復性精度可以控制在幾個百分點, 符合半導體行業的需求.

動態二次離子質譜儀 ADEPT-1010 場地和環境要求

凈重	1,350 kg
裝運重量	大約 2,400 kg
實驗室入口尺寸	寬度大于 110 cm, 高度大于 200 cm
電力	200-230VAC, 50/60 Hz,50 A 單相, 需要接地線

ADEPT-1010 動態二次離子質譜儀的超高真空檢測環境有助于對低濃度大氣污染物進行深度剖析, 同時保持了出色的深度分辨率和低濺射率. 這種檢測能力對于高速半導體器件的檢測信息完整性而言至關重要.應用 SIMetric軟件, 實現高效快速測試的同時, ADEPT-1010 動態二次離子質譜儀能夠自動分析分析多個樣品. 實現無人值守.

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