氦質譜檢漏儀光刻機檢漏
上海伯東客戶日本某生產半導體用光刻機公司, 光刻機真空度需要達到 1x10-11 pa 的超高真空, 因為設備整體較大, 需要對構成光刻機的真空相關部件進行檢漏且要求清潔無油, 滿足無塵室使用要求, 為了方便進行快速檢漏, 采購伯東 Pfeiffer 便攜式氦質譜檢漏儀 ASM 310.

光刻機檢漏方法: 采用真空模式檢漏, 漏率值設定為 1x10-11pa m3/s.
1. 通過波紋管與光刻機真空系統連接
2. 使用噴槍, 噴掃管路, 腔體焊縫, 接頭等部位, 如果存在超過設定漏率值的狹縫, 檢漏儀會時時發出聲光報警, 同時在屏幕上顯示漏率值.

便攜式氦質譜檢漏儀 ASM 310 主要技術參數：

對氦氣的最小檢測漏率	真空模式 5E-13 Pa m3/s ,吸槍模式 1E-8 Pa m3/s
檢測模式	真空模式和吸槍模式 檢漏方法>>
氦質譜檢漏儀無油前級泵抽速	1.7 m3/h
檢測氣體	4He , 3He, H2
響應時間	<1s
對氦氣的抽氣速度	1.1 l/s
氦質譜檢漏儀進氣法蘭	DN 25 ISO-KF
進氣口最大壓力	15 hPa
通訊接口	RS-232
工作溫度	10-40 °C
噪音水平	< 45 dB (A)
尺寸	350 X 245 X 141 mm
重量	21 kg (46 lb)

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